酸化セリウム

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酸化セリウム
特長 原料に酸化希土・炭酸希土を使用し、セリウム濃度が高く、研削性、耐摩耗性に優れています。フォトマスク基板、ガラスハードディスク基板・液晶ガラス基板・光学レンズ等の研磨に幅広く利用されています。
用途 ガラス研磨

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